光電光學行業中生產用水相對于其它行業的工業用純水，水質要求比較高，而隨著經濟的高速發展，國家對光電光學行業的環保要求也越來越高，所以在這里以反滲透加EDI及拋光混床等說明工業純水在光學制造中的應用.
本項目選用先進、成熟、出水水質穩定、系統運行穩定的反滲透+EDI脫鹽裝置+拋光核能混床作 為系統的主脫鹽設備；系統運行費用低、易于實現自動化。反滲透水處理系統具有很好的經濟性反滲透+EDI脫鹽+拋光混床的水處理系統工藝流程如下：
原水箱→原水泵→多介質過濾器→活性碳過濾器→全自動軟化器→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透系統→中間水箱→二級高壓泵→二級反滲透系統→純水箱→純水泵→TOC分解器→脫氣膜→精密過濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→膜過濾器→生產線用水點
工藝的詳細說明：原水首先流入原水箱。原水箱對原水的供給起到緩沖作用，協調原水的供給量與原水泵的輸入量。當原水的供應量超過原水泵的輸水量時，原水箱水滿，通過原水箱的液位控制使用原水供給停止。當原水供應量小于原水泵的輸水量時，原水箱空，原水泵停止運行，起到保護原水泵的作用。去色：可去除由鐵、錳及植物分解生成物或有機污染物等所形成的色度。
脫氯：可去除因余氯所造成的臭味。反滲透裝置是該項目預脫鹽的心臟部分，經反滲透處理的水，能去除絕大部分無機鹽、有機物、微生物等。設計的合理與否直接關系到項目的投資費用，整個系統運行經濟效益， 使用壽命，操作可靠簡便性。
反滲透膜均采用世界上最先進的超低壓復合膜，單根脫鹽率達99.8%。當系統設計溫度為25℃時，考慮到原水水質變化以及膜的使用壽命等因素，反滲透膜在長期運行中，表面會逐漸有進水中存在的各種污染物的沉積而引起膜的污染，這造成系統性能（脫鹽率和產水量）的下降，組件進出口壓差的升高；膜的定期清洗是防治膜污染的主要措施之一。
反滲透裝置在停運和化學清洗前，需要進行低壓水沖洗；在運行較長時間后，若壓差明顯增大，產水量明顯下降，則需要進行化學清洗。清洗劑選用反滲透膜專用清洗藥劑，絕對無污染、無化學藥劑殘留；清洗裝置包括清洗水泵、清洗水箱以及清洗用精密過濾器。超純水處理深一層除去水中的鹽類 ，使水的純度提高（電阻率≥18MΩ.CM）。處理采用純水泵、TOC、微濾膜過濾器、EDI裝置、紫外線、微濾膜過濾器。 EDI裝置是應用有反滲透系統之后，取代混合離子交換床的成熟技術具有產水品質穩定，它的工作原理主要是：原水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、碳酸鹽、 硅等溶解鹽。
這些鹽是由負電離子（負離子）和正電離子（正離子）組成。反滲透可以除去其中超過99%的離子。自來水也含有微量金屬，溶解的氣體（如 CO2）和其它必須在工業處理中去除的弱離子化的化合物（如硅和硼砂）。RO出水（EDI進水）一般為4-30us（電導），根據不同需要，超純水或去離 子水一般電阻為2-15MΩ.CM。EDI通過用氫離子或氫氧根離子將它們交換并將它們送至濃水流中除去它們。交換反應在模塊的純化室進行，在那里陰離子 交換樹脂用它們的氫氧根離子（OH-）來交換溶解鹽中的陽離子（如CL-）。
相應地，陽離子交換樹脂用它們交換樹脂用它們的氫離子（H+）來交換溶解鹽中 的陽離子（如Na+）。在位于模塊兩端的陽極（+）和陰極（-）之間加一直流電場。電勢就使交換到樹脂上的離子沿著樹脂粒的表面遷移并通過膜進入濃水室。 陽極吸引負離子（如OH-，CL-）。這些離子穿過陰離子膜進入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽離子（如 H+，Na+）。這些離子穿過陽離子選擇膜，進入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，從而留在濃水流中。當水流過這兩種平行的室時，離子在純水室被除并在相臨 的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模塊中帶走。
在純水及濃水中離子交換樹脂的使用是 IONPURE EDI技術和專利的關鍵。一個重要的現象在純水室的離子交換脂中發生。在電勢差高的局部區域，電化學反應分解的水產生的大量的H+和OH-。在混床離子交 換樹脂中局部H+和OH- 的產生使樹脂和膜不需要添加化學藥品就可以持續再生。使EDI處于最佳工作狀態、不出故障的基本要求是對EDI進水進行適當的預處理。進水中的雜質對去離 子模塊有很大影響。并可能導致縮短模塊的壽命。總的說有八大優點：
①不需要酸堿再生；
相關搜索：高純水設備在工業領域的應用 EDI膜堆的工作原理？ EDI系統設計工藝與維護要求？
本文網址: http://www.ggg431.com/dgweb_content-470772.html
*版權所有*，轉載請注明出處，并以鏈接形式鏈接網址 :www.ggg431.com
服務熱線
服務熱線
關注微信
手機站
